スピンプロセッサー

多目的スピンコーター POLOS

多目的スピンコーターPOLOSの最大の特徴は全てが樹脂で出来ている事にあります。その為、レジストコート以外にエッチングなど、アルカリ性・酸性等の薬品洗浄が必要な目的にも使用する事ができます。

POLOSデスクトップ型「Spin 150i」
レンタルサービス

利点
ラインアップ
特徴
ユーティリティー一体型スピンコーター「スピンプロセスステーション」
各種基板ホルダー
耐薬品対応表

利点

オール樹脂ボディーのシステム

使いやすい = 簡単に洗浄できます
多くのオプションと拡張性が利用可能
化学的に不活性です (ポリプロピレン、テフロン)

ブラシレスモーターを採用

重い基板にも対応可能
加速/逆回転/回転なしの値を自由に設定可能
最大 10000rpm の回転速度。高粘度材料でのコーティングも可能

オール樹脂ボディーのシステム

チップサイズ～最大 1000×1000mm までの基板寸法に対応
多くのアプリケーションに対応するさまざまな選択肢のラインアップ
* ディスペンスタイプ: 手動 / 自動
* デスクトップタイプ / OEM タイプ
* ユーティリティー一体型スピンコーター「ミニウェットステーション」
基板固定における幅広いチャックラインアップ (例: 真空チャック、メカニカルチャックなど)
ポンプ、タンク、外部装置用のフィードバックシステムなど、多くのカスタマイズ対応が可能

オール樹脂製多目的スピンプロセッサー「POLOSシリーズ」のラインアップ

スタンダード型

3つのプログラム用アウトプット端子付き。（例：ディスペンスユニット、N₂ ディフューザー等）
アウトプット端子の使用によりオートマチックディスペンスとして使用可能

ディスペンス		マニュアル
型式-タイプ（型）		Spin150x（デスクトップ） Spin150x-INT（組み込み）	Spin200x（デスクトップ） Spin200x-INT（組み込み）
対応基板サイズ		φ160mm(or 6") or 4" x 4" まで	φ260mm(or 8") or 6" x 6" まで
使用例	乾燥	〇	〇
	リンス	〇	〇
	洗浄	〇	〇
	エッチング	〇	〇
	現像	〇	〇
	コーティングマニュアル	〇	〇
	コーティングオートマチック	-	-

アドバンスト型

LAN接続により無制限の I/O制御が可能。
重い基板や高加速度に対応した高耐久性/ 高トルクのモーターを使用。
様々なカスタマイズに対応。

ディスペンス		オートマティック
型式-タイプ（型）		POLOS200x-ADV（デスクトップ） POLOS200x-ADV-INT（組み込み）	POLOS300x-ADV（デスクトップ） POLOS300x-ADV-INT（組み込み）
対応基板サイズ		φ260mm(or 8") or 6" x 6" まで	φ360mm(or 12") or 8" x 8" まで
使用例	乾燥	〇	〇
	リンス	〇	〇
	洗浄	〇	〇
	エッチング	〇	〇
	現像	〇	〇
	コーティングマニュアル	-	-
	コーティングオートマチック	〇	〇

＊オプションにより、最大角基板1000mmまで対応可能。

オール樹脂製多目的スピンプロセッサー「POLOSシリーズ」の共通の特徴

チャンバー材質	- NPP (標準) または PTFE (オプション) 耐薬品性ポリプロピレン (オプションでテフロン) によるシームレスなチャンバー構造。簡単に洗浄ができます。
コントロールパネル	- タッチパネル操作。取り外し可能手袋をしたまま操作可能。グローブボックス内での使用に適しています。
プログラム	- 無制限のプログラムとストレージ容量* - 最小ステップ時間 ±0.1 秒外部 PC は不要 *標準ユニットを追加することで、USB、PC ソフトウェアなどが利用可能になります。
データポート	USB
付属基板ホルダー	- 標準真空チャック - φ 1/2 インチ - φ 2 インチ用小型アダプター (オプションで各種ホルダーをご用意しています)
回転速度	- 最大 12000rpm (150 または 200 シリーズ) - 最大 10000rpm (300 シリーズ) 時計回り、反時計回り、パドル動作
加速	0-3000 rpm/秒
回転精度	±1rpm
電源	100–120VAC、 50/60Hz、 2.5A
消費電力	500W (最大)

＊オプションで1000mm角の基板まで対応可能

ユーティリティー一体型スピンコーター「スピンプロセスステーション」

スピンコーターと高精度の薬液供給システムを一体化し、一つのプログラムで複数のプロセスを設定可能なシステムです。
キャビネット内には、薬液共有システム、廃液システム、排気システムが組み込まれ、センサによるアラーム監視機能も搭載され、安全性にも配慮されています。
スピンコーターは他モデル同様耐薬品性に優れた素材を使用（PP、PTFE等）。

スピンプロセスステーションの特徴

基板サイズ	Φ300mmモデル（～ 260までの基板処理可能） Φ400mmモデル（～ 360までの基板処理可能）カスタムで大型基板（～600 x 600mm）対応可能
チャンバー材質	PP、PTFE（TFM1600）、PFA、ECTFEより選択。
モーター	・標準タイプ 1～10,000rpm、右回り、Φ8"基板使用時加速2,000回転/秒・ヘビーデューティータイプ 1～10,000rpm、右回り＆左回り、Φ8"基板使用時加速3,000回転/秒上記タイプより選択。詳細なモーター仕様の違いはお問合せ下さい。
主なオプション	・リニア駆動薬液供給アーム、薬液供給ノズル・ラインの増設、メガソニックの洗浄機構・再循環可能な薬液供給、排気システム、高圧ジェット、薬液供給温度制御・裏面および側面へのスプレーノズル取付け（例：エッジビード除去等）、各種チャック（真空、メカニカル、裏面保護等 300種類以上）、安全インターロック

＊オプションで1000mm角の基板まで対応可能

POLOS 各種基板ホルダー

小型基板用真空チャック
メカニカルチャック
角型基板用メカニカルチャック (マスク、液晶セル‥)
その他真空チャックカスタマイズ対応

丸型基板用真空チャック 2" ～ 300mm ウェハ　対応
丸型基板用 (真空チャック＋位置決めセンタリングピン付)
丸型基板用メカニカルチャック (2"、3"、4"対応型)
その他メカニカルチャック詳細はお問合せ下さい。

耐薬品対応表

（参考）
チャンバー材質：NPP（Natural Poly Propylene）/標準 or PTFE（テフロン）/オプション
○：使用可能　-：使用不可　▲：使用条件によっては破損の可能性があるため、お問合せください。

使用薬液	分子式	NPP	PTFE
酢酸	C₂H₂O₂	○	○
アセトン	C₃H₆O	○	○
α-テルピネオール	C₁₀H₁₈O	○	○
水酸化アンモニウム	NH₄OH	○	○
塩化アミル	C₅H11Cl	-	○
メトキシベンゼン	C₇H₈O	○	○
ベンゼン	C₆H₆	-	○
臭素	Br	-	▲
クロロベンゼン	C₆H₅OI	○	○
クロロホルム	CHCl₃	○	○
ジエチルケトン	C₅H₁₀O	○	○
ジエチルマロネート	C₁₁H₂₀O₄	○	○
エチレングリコール	C₂H₆O₂	○	○
シクロヒキサン	C₆H₁₂	-	○
シクロヘキサノン	C₆H₁₀O	-	○
フッ素	F₂	-	-
ヘキサメチルジシラザン	C₆H₁₉NSi₂	○	○
ヘキサン	C₆H₁₄	○	○
臭酸	HBr	▲	▲
塩酸	HCI	▲	▲
フッ酸	HF	▲	▲
過酸化水素水	H₂O₂	○	○
ヨード	I₂	○	○
イソプロピルアルコール（IPA）	C₃H₈O	○	○
トリメチルベンゼン	C₉H₁₂	○	○
オゾン水	O₃ & H₂O	○	○
メタノール	CH₄O	○	○
メチルエチルケトン（MEK）	C₄H₈O	○	○
塩化メチレン	CH₂CI₂	○	○
メチルイソブチルケトン（MIK）	C₆H₁₂O	○	○
N-メチル-2-ピロリドン（NMP）	C₅H₉NO₃	○	○
硝酸	HNO₃	▲	○
リン酸	H₃O₄P	○	○
フォトレジスト		○	○
ポリメチルメタクリレート（PMMA）	C₅H₈O₂	○	○
水酸化カリウム	KOH	○	○
硫酸	H₂SO₄	▲	▲
テトラハイドロフラン（THF）	C₄H₈O	○	○
トルエン	C₇H₈	○	○
トリクロロエンタン（TCA）	C₂H₃CI₃	○	○
トリクロロエチレン（TCE）	C₂HCI₃	○	○
キシレン	C₁₂H₁₅O₆	○	○

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記入時注意事項

テーブルの行列は変更しないでください。
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製品分類1	微細加工装置
製品分類2	多目的スピンプロセッサー
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