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常温スパッタによる低抵抗ITO

物質材料工学研究所IMRE (Institute of Material Research and Engineering)

シンガポールの物質材料工学研究所IMRE (Institute of Material Research and Engineering)が開発した、常温スパッタリングによる低抵抗かつ透過率の高いITO、AZOの成膜を行います。
常温プロセスの為、樹脂フィルムや熱に弱い基板/構造にも高品質の成膜が可能。有機太陽電池(OPV)、OLED等の試作開発に最適。

ウェハー面内抵抗値

ITO
常温
膜厚 (nm) シート抵抗
(Ω/□)
抵抗値
(µΩ・cm)
膜厚 面内分布
(Average %)
100 44.4
(±26.2%)
450
(±15%)
±10.4%
150 29.6
(26.2%)
AZO
常温
膜厚 (nm) シート抵抗
(Ω/□)
抵抗値
(µΩ・cm)
膜厚 面内分布
(Average %)
100 300
- 1500
3000
- 15000
±10.2%
150 200
- 1000

透過率

ITO
膜厚 (nm) 波長 (nm) 透過率 (%)
100 500 88
150 500 88
AZO
膜厚 (nm) 波長 (nm) 透過率 (%)
100 500 88
150 500 88
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TEL:044-852-7575(電子部)
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